Lithographies optiques et gravures chimiques
Le poste d’assistant.e ingénieur.e est proposé en mobilité interne dans la fonction publique (campagne NOEMI) par le Centre de Nanosciences et Nanotechnologies (C2N, CNRS/ Univ. Paris Saclay) localisé sur le plateau de Saclay.
La personne recrutée aura pour missions de :
- développer et caractériser des procédés de lithographies optiques et de gravures humides pour l’ensemble des études du laboratoire
- assurer la gestion technique d’un parc d’équipements de lithographie optique et de lithographie par faisceau focalisé et d’un parc de sorbonnes de chimie.
La personne recrutée viendra renforcer la ressource « lithographie optique », qui est l’une des 3 ressources composant le pôle « lithographies », et la ressource « chimie et gravure humide », qui est l’une des 2 ressources composant le pôle « gravures ». Elle/il évoluera sous la responsabilité fonctionnelle des coordinateurs de ces deux ressources et sous la responsabilité hiérarchique du responsable du pôle « lithographies ». Au-delà de ces deux ressources, elle prendra part à des projets transversaux de l’Unité dans son cœur de métier.
Mots-clefs : Lithographies optiques ; Procédé de gravures humides ; Caractérisation par microscopies optique et électronique, profilométrie, ellipsométrie ; Gestion du parc de Sorbonnes de chimie.
Date de démarrage : 01/09/2021
Contact : DR04.mobilite.interne@cnrs.fr