Poste d’Assistant.e-Ingénieur.e sur l’élaboration de matériaux en couches minces

Lithographies optiques et gravures chimiques

Le poste d’assistant.e ingénieur.e est proposé en mobilité interne dans la fonction publique (campagne NOEMI) par le Centre de Nanosciences et Nanotechnologies (C2N, CNRS/ Univ. Paris Saclay) localisé sur le plateau de Saclay.

La personne recrutée aura pour missions de :

  • développer et caractériser des procédés de lithographies optiques et de gravures humides pour l’ensemble des études du laboratoire
  • assurer la gestion technique d’un parc d’équipements de lithographie optique et de lithographie par faisceau focalisé et d’un parc de sorbonnes de chimie.

La personne recrutée viendra renforcer la ressource « lithographie optique », qui est l’une des 3 ressources composant le pôle « lithographies », et la ressource « chimie et gravure humide », qui est l’une des 2 ressources composant le pôle « gravures ». Elle/il évoluera sous la responsabilité fonctionnelle des coordinateurs de ces deux ressources et sous la responsabilité hiérarchique du responsable du pôle « lithographies ». Au-delà de ces deux ressources, elle prendra part à des projets transversaux de l’Unité dans son cœur de métier.

Mots-clefs : Lithographies optiques ; Procédé de gravures humides ; Caractérisation par microscopies optique et électronique, profilométrie, ellipsométrie ; Gestion du parc de Sorbonnes de chimie.

Date de démarrage : 01/09/2021

Contact : DR04.mobilite.interne@cnrs.fr

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